概要 閉じる

配分機関名
国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構
公募年度
2022
公募名
次世代ファインセラミックス製造プロセスの基盤構築・応用開発事業(2022年度公募)
研究分野
 
キーワード
 
受け付ける研究期間(最短・最長)
(最短) 1から (最長) 4年
応募受付期間
2022/03/16 09:00   ~   2022/04/25 12:00
事業分類カテゴリ
SBIR
対象者カテゴリ
企業(団体等を含む)、大学等、研究者・研究チーム
応募額の制限
応募額の制限
(下限) (設定なし)   ~   (上限) (設定なし)
間接経費
(上限金額設定)
(設定なし)
再委託費・
共同実施費
(下限) (設定なし)   ~   (上限) (設定なし)
過去の採択状況URL

詳細

応募の概要
本プロジェクトでは、今後成長が期待される電子部品等のファインセラミックス分野における国際的な競争力強化のため、これまで行われてきた「経験と勘」に基づく製造プロセス開発に代わり、ファインセラミックスの一連の工程を対象とした製造プロセス技術と計算科学の融合・連携によるプロセス開発基盤を構築するとともに、プロセス開発基盤を活用した企業における実用化を支援します。 なお、今回の公募の対象は、研究開発項目〔1〕「革新的プロセス開発基盤の構築」及び研究開発項目〔2〕「革新的プロセス開発基盤の応用開発」です。
応募の対象者
企業(団体等含む) 大学等
スケジュール
対象業務 日程
公募締切 2022年4月25日
連絡事項
 
公募担当者情報
部・課
 
担当者氏名
 
電話番号
 
FAX番号
メールアドレス
 
応募要領ファイル
ダウンロード
申請様式ファイル
ダウンロード
URL
制度・事業URL
操作マニュアル(制度・事業固有版)
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